name
Vinaora Nivo Slider 3.xVinaora Nivo Slider 3.xVinaora Nivo Slider 3.x
Vinaora Nivo Slider 3.xVinaora Nivo Slider 3.xVinaora Nivo Slider 3.xVinaora Nivo Slider 3.xVinaora Nivo Slider 3.xVinaora Nivo Slider 3.x

Carbon TetraLuoride (CF4)

carbon tetraluoride cf4 support

ỨNG DỤNG:

- Carbon Tetrafluoride (CF4) là loại khí dùng trong in khắc plasma, được sử dụng rộng rái trong các ngành công nghiệp vi điện tử hiện nay. Nó được sử dụng để in khắc silicon dioxite, silicon nitride, kính phosphoro silicate và vật liệu màng vonfram.

- Sử dụng trong công nghệ làm sạch bề mặt các thiết bị điện tử hay mạch in, sản xuất pim năng lượng mặt trời, công nghệ laser, khí cách nhiệt, điện lạnh v.v…

- Là chất tẩy rửa trong sản xuất mạch in công nghệp.

- Sở hữu tính ổn định về hóa học , CF4 cũng được sử dụng trong công nghệ nấu chảy kim loại và công nghiệp nhựa.

Thông số kỹ thuật

NỘI DUNGĐƠN VỊCARBON TETRAFLUORIDE
Độ tinh khiết % ≥99,999
Nitrogen (N2) ppm ≤1,0
Oxygen (O2) ppm ≤0,5
Carbon monoxide (CO) ppm ≤0,5
Carbon Dioxide (CO2) ppm ≤0,5
Halocarbons (THC) ppm ≤0,5
Sulfur Hexafluoride (SF6) ppm ≤0,5
Moisture (H2O) ppm ≤2,0
Acidity as HF ppm ≤0,1
Thể tích chai chứa /Trọng lượng / Áp suất 10L/4KG/100BAR và 40L/25KG/100BAR
Tiêu chuẩn chai chứa, van kết nối GB5099 – ISO 9809-3. Kết nối CGA320 / 716
Cách xác định- màu Vỏ chai màu xám
Đặc tính Không màu, không mùi, khí nén không độc, và có tính bay hơi cao
Thông số kỹ thuật trên chỉ mang tính tham khảo, thông số có thể thay đổi theo thực tế từng lô hàng